铟溅射靶材 (In)
| 材料类型 | 铟靶 (In) |
|---|---|
| 元素符号 | In |
| 纯度 | 4N,4N5,5N,6N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
铟 (In) 溅射靶材描述：
铟 (In) 溅射靶材是一种低熔点、高延展性的金属靶材，具有高纯度、优异的导电性和良好的附着力等特点。纯铟靶材应用广泛，
但最广为人知的用途是作为制备 ITO（氧化铟锡）靶材的基材——
ITO 目前是所有平板显示器和触摸屏透明电极的核心材料。
纯度范围为 4N 至 6N；99.99% 至 99.9999%。
形状包括：平面铟靶、旋转铟靶和不规则形状铟靶。
平面靶：传统的靶材形状，包括圆形和方形靶，适用于大多数标准溅射设备。
旋转靶：近年来广泛应用于显示面板领域，
具有材料利用率高、沉积速率快、薄膜均匀性好等优点。
不规则形状靶材：根据特定设备要求定制的非标准形状。
应用领域：
铟靶材及其衍生物氧化铟锡（ITO）靶材是连接光电信息产业的关键材料。
显示面板领域：透明电极核心
电压型太阳能电池
半导体和微电子
光学器件和红外涂层
键合和焊接材料
In-5n-COA
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