镍溅射靶材（Ni）
| 材料类型 | 镍靶 (Ni) |
|---|---|
| 元素符号 | Ni |
| 纯度 | 3N,3N5,4N,4N5,5N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
镍 (Ni) 溅射靶材描述：
镍溅射靶材是一种重要的金属溅射靶材。
形状类型
**镍平面靶材：**最常用的平面靶材，适用于大多数磁控溅射设备。
方形靶材：50×50×3mm、100×100×4mm、300×300×5mm；圆形靶材：φ50×3mm、φ76.2×3mm、φ101.6×5mm
**镍圆形靶材**：圆柱形或圆盘形靶材。φ25.4×3mm、φ50.8×4mm、φ152.4×6mm 等。
**镍旋转靶材**：管状旋转靶材，利用率高，适用于大面积镀膜。
长度可定制，常用于平板显示行业。
异形靶材：根据客户设备要求定制的非标形状。阶梯靶材、多弧靶材等。
由于其高纯度、优异的耐腐蚀性、良好的导电性和导热性，以及独特的磁性，镍已成为许多高科技领域不可或缺的核心材料。
1. 半导体和集成电路：
2. 磁存储和传感器：磁性薄膜；电磁屏蔽
3. 装饰和功能涂层：高端装饰涂层；光学器件涂层
4. 新能源和特殊应用
镍薄膜本身具有明亮的银白色金属光泽和优异的耐腐蚀性，因此在日常消费品和高精度光学器件中得到广泛应用。
Ni-4N5-COA
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