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铌铬溅射靶材（NbCr）

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Aluminum
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铌铬溅射靶材（NbCr）

材料类型 铌铬靶（NbCr
元素符号 NbCr
纯度 3N
尺寸 按需求
形状 平面/圆形/异形靶
交期 1-3周
定制 支持定制
绑定服务 支持
用途 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层
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产品简介

铌铬（NbCr）溅射靶材说明：

铌铬（NbCr）溅射靶材是一种高性能二元合金材料，广泛用于先进电子、航空航天及工业领域中耐高温、耐腐蚀及耐磨薄膜的沉积。NbCr 合金具有优异的热稳定性、高硬度、较强的附着力、低内应力以及均匀的成膜性能，是恶劣工况环境下高耐久性功能涂层及阻挡层的理想材料。

常见比例

NbCr 10/90、20/80、30/70、40/60、50/50、70/30、80/20、90/10（wt% 或 at%）

其中，NbCr 20/80 和 NbCr 30/70 是应用最广泛的比例，兼具耐腐蚀性与热稳定性，广泛用于高温防护镀层及电子阻挡层；NbCr 50/50 则因其优异的耐磨性能，常用于航空航天及精密机械溅射应用。

半导体与微电子

用于集成电路、晶圆及电子封装中的扩散阻挡层、钝化镀层及耐高温稳定金属化层，可有效抑制元素互扩散，提高器件可靠性与使用寿命。

耐高温与耐腐蚀镀层

广泛用于航空航天部件、发动机零件、切削工具及极端环境工业设备的抗氧化、耐腐蚀及耐高温稳定镀层沉积。

耐磨薄膜

适用于精密机械、模具、轴承及汽车零部件的高硬度、低摩擦耐磨涂层制备，可延长使用寿命并保持表面完整性。

光学与功能薄膜

用于制备高稳定性光学镀层、反射层以及兼具优异机械性能和热性能的功能薄膜，适用于光学仪器及光电器件。

科研与先进镀层开发

广泛应用于材料科学、薄膜沉积研究以及下一代高性能防护与电子镀层系统开发。

兼容性

NbCr 溅射靶材兼容直流（DC）及射频（RF）磁控溅射系统，可实现稳定沉积、均匀膜层成分及高质量薄膜形成。

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