铪颗粒 (Hf)
| 材料类型 | Hf 颗粒 |
|---|---|
| 元素符号 | Hf |
| 纯度 | 3N,3N5,4N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 颗粒，块，锭等 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
铪 (Hf) 颗粒描述：
铪颗粒蒸发材料的核心应用是作为物理气相沉积 (PVD) 工艺中的高纯度金属源材料。
通过蒸发沉积，它可以在各种基材上形成具有特定功能的金属或氧化物薄膜。
纯度：3N、3N5
尺寸：1-10mm、D3x3mm、D6x6mm、可定制尺寸
形状：颗粒、片状、块状；锭状；可定制形状
核心应用领域：
半导体制造（核心驱动力）：这是目前最重要的应用领域。
高纯度铪经蒸发后，在氧气气氛中发生反应，沉积二氧化铪 (HfO₂) 薄膜。
高性能光学涂层：金属铪在含氧环境中的反应和蒸发可制备具有以下特性的光学薄膜：
高激光损伤阈值
航空航天和核工业
耐高温涂层
核反应堆控制材料
Hf-3N5-COA
