钴铬镍溅射靶材 (CoCrNi)
| 材料类型 | 钴铬镍靶 (CoCrNi) |
|---|---|
| 元素符号 | CoCrNi |
| 纯度 | 3N, 3N5 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/异形靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钴铬镍 (CoCrNi) 溅射靶材描述：
Co-Cr-Ni 合金溅射靶材是一种高性能三元合金溅射靶材。
高端应用（例如半导体和医疗应用）通常需要纯度达到 99.9% (3N) 或更高，
以严格控制杂质含量，特别是氧 (O)、碳 (C) 和氮 (N) 等元素的含量。
常用配比：
CoCrNi 1:1:1 at%
CoCrNi 50/30/20 at%
可根据客户镀膜设备（例如磁控溅射机）的具体要求进行定制加工：
可加工平面靶、圆形靶和不规则形状靶。
应用领域：生物医学；航空航天；信息存储；半导体和微电子：
导电层和阻挡层：用于半导体器件中的薄膜沉积。
电极材料：用于制备显示技术（例如 TFT）中的电极。新能源与海洋工程：耐腐蚀性和导电性。
CoCrNi-3N-COA
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