钴铁钽硼溅射靶材 (CoFeTaB)
| 材料类型 | 钴铁钽硼靶 (CoFeTaB) |
|---|---|
| 元素符号 | CoFeTaB |
| 纯度 | 2N5 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/异形靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钴铁钽硼 (CoFeTaB) 溅射靶材描述：
钴铁钽硼 (CoFeTaB) 是一种四元合金溅射靶材，它将钽 (Ta) 掺入到钴铁硼 (CoFeB) 中。
这一改进解决了 CoFeB 的一个关键缺陷——电阻率低导致高频损耗——使其成为下一代 5G/6G 通信和高密度存储的关键材料。
常用配比：CoFeTaB 53/23/8/16 at%（可定制）
高纯度 (≥99.9%)，超高电阻率 (>100 µΩ·cm)，优异的非晶态形成能力和热稳定性
应用：片上射频电感器（核心新兴应用）
超高密度磁记录
自旋电子器件
磁传感器
制造工艺：主要采用惰性气体保护下的真空电弧熔炼或真空感应熔炼，随后进行均匀化热处理，以确保成分和微观结构的均匀性。
相关溅射靶材
CoCr溅射靶材
CoCrNi溅射靶材
CoFeB溅射靶材
CoCu溅射靶材
CoFe溅射靶材
