钒溅射靶材（V）
| 材料类型 | 钒靶 (V) |
|---|---|
| 元素符号 | V |
| 纯度 | 3N,3N5 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钒 (V) 溅射靶材描述：
钒靶材具有均匀的内部结构、高密度和稳定的溅射性能。
| 工业级 | 99.5% (2N5) - 99.9% (3N) | 一般装饰镀膜、普通合金添加、低端功能性涂层 |
| 高纯级 | 99.95% (3N5) | 主流需求。适用于半导体、平板显示、光学镀膜、数据存储，以及镍钒（NiV）等合金靶材 |
由于钒金属具有高硬度、耐腐蚀性、耐高温性和良好的导电性等优异性能，钒溅射靶材在许多高科技领域有着广泛的应用。
1. 半导体和电子器件
2. 信息显示和光电器件
3. 新能源和航空航天
4. 尖端技术和功能涂层
医疗和工业涂层：在医疗器械上沉积镍钒薄膜可提供耐磨性、
耐腐蚀性和抗菌性。它也广泛用于手表、五金件等的装饰涂层。
V-3N5-COA
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