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钽钛溅射靶材(TaTi)


材料类型 钽钛靶(TaTi)
元素符号 TaTi
纯度 3N5
尺寸 按需求
形状 平面/圆形/旋转靶
交期 1-3周
定制 支持定制
绑定服务 支持
用途 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层
产品简介

钽钛(TaTi)溅射靶材介绍:

钽钛(TaTi)溅射靶材是一种高性能二元合金材料,广泛应用于先进电子、光学及工业领域中的高性能阻挡层、防护层及耐高温薄膜沉积。TaTi 合金具有优异的抗氧化性能、热稳定性、良好的附着力、低内应力以及均匀成膜性能,是高耐久性功能涂层的理想材料。

常规成分比例:
TaTi 10/90、20/80、30/70、50/50、70/30、90/10(重量比或原子比)

高温防护涂层

TaTi 靶材常用于切削工具、发动机部件以及极端环境下表面防护层的抗氧化、耐腐蚀涂层沉积。

半导体与微电子领域

应用于集成电路、晶圆及电子封装中的扩散阻挡层、封装薄膜以及钝化涂层。

光学与防护薄膜

用于制备具有高热稳定性和机械稳定性的耐久型光学涂层、减反射膜以及硬质保护层。

薄膜封装与阻挡材料

适用于显示器件及光电器件中的气体阻挡膜、防潮涂层以及绝缘层。

科研与先进涂层开发

广泛应用于材料科学、薄膜沉积以及高性能涂层研发领域。

TaTi 溅射靶材兼容 DC 与 RF 磁控溅射系统,可实现稳定沉积并获得高质量薄膜。

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