铬溅射靶材（Cr）
| 材料类型 | 铬靶 (Cr) |
|---|---|
| 元素符号 | Cr |
| 纯度 | 2N5,3N,3N5,4N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
铬 (Cr) 溅射靶材描述：
铬靶材纯度等级：2N5、3N、3N5、4N
铬平面靶材：多为板状或圆盘状，采用热压烧结工艺制造，具有高密度、低氧含量和优异的薄膜均匀性。
适用于对精度要求极高的应用，例如半导体封装、高端电子元件和精密光学镀膜。
铬旋转靶材：通常为管状，采用喷涂或热等静压工艺制造，
尺寸可达4000毫米，材料利用率高，适用于大面积连续生产，以及批量生产。
广泛应用于大面积涂层应用，例如建筑玻璃、光伏电极和装饰涂层。
铬靶材的应用范围广泛，几乎涵盖从基础工业到尖端技术的各个方面：
半导体和微电子：用于芯片制造，形成粘附层、
阻挡层和电极层，防止铜扩散并提高电路可靠性。
装饰和功能涂层：赋予手表、手机外壳等产品
以及五金件亮丽的金属光泽，同时提供优异的耐磨性和防腐蚀性。
硬质涂层和刀具：在切削刀具、模具和汽车活塞环等部件上沉积铬或氮化铬 (CrN) 硬质薄膜，可显著提高其耐磨性并延长使用寿命。
其他高端应用：也广泛用于太阳能光伏电池电极、节能建筑玻璃的隔热膜、光学器件的分光膜以及数据存储的磁性薄膜。
Cr-3N5-COA
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