铝钛硅（AlTiSi）溅射靶材介绍
铝钛硅（AlTiSi）溅射靶材是一种高性能三元合金材料，广泛应用于先进电子、光学及工业领域中高性能防护薄膜、阻挡层及耐高温薄膜的制备。AlTiSi三元合金具有优异的抗氧化性能、热稳定性、良好的附着力、低内应力以及均匀成膜特性，是高耐久性功能涂层的理想材料。
高温防护涂层
AlTiSi靶材广泛用于切削工具、发动机部件以及极端环境下表面防护层的制备，可形成耐氧化、耐腐蚀薄膜。
半导体与微电子应用
适用于集成电路、晶圆及电子封装中的扩散阻挡层、封装保护膜及钝化涂层的制备。
光学与防护薄膜
用于制备高热稳定性和机械稳定性的耐久型光学涂层、减反射膜以及硬质防护层。
薄膜封装与阻挡材料
适用于显示器件及光电器件中的气体阻挡膜、防潮涂层以及绝缘层的制备。
科研与先进镀膜开发
广泛应用于材料科学、薄膜沉积工艺以及高性能涂层研发领域。
AlTiSi溅射靶材完全兼容直流（DC）及射频（RF）磁控溅射系统，可实现稳定沉积与高质量薄膜制备。
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