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钽颗粒 (Ta)


材料类型 Ta 颗粒
元素符号 Ta
纯度 3N,3N5,4N
尺寸 按需求
形状 颗粒,块,锭等
交期 1-3周
定制 支持定制
绑定服务 支持
用途 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层
产品简介

钽 (Ta) 颗粒描述:


纯度:3N、3N5, 4N


尺寸:1-10mm、D3x3mm、D6x6mm、10-20mm、可定制尺寸


形状:颗粒、球状、块状;可定制形状


钽 (Ta) 颗粒蒸发材料的核心应用在于利用其极高的熔点 (2996°C)、优异的耐腐蚀性和稳定的电性能,通过电子束蒸发


及其他方法,制备高性能薄膜或作为半导体、光学器件和高温合金的添加剂。


应用领域:


半导体和微电子:


高介电常数栅极介质:通过氧化形成五氧化二钽 (Ta₂O₅) 薄膜,可用作高介电常数栅极介质层或电容器介质。


光学镀膜:


1. 高折射率光学薄膜:与低折射率材料(例如二氧化硅)交替沉积,形成多层减反射(AR)膜、高反射膜或分光光度计。


2. 红外反射/保护层:用于卫星太阳能电池板的保护或反射涂层以及红外光学器件。


3. 高温合金和特殊熔炼


4. 耐腐蚀涂层和极端环境应用



Ta-3N5-COA

Ta 3N5.jpg

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