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铁镍钴溅射靶材(FeNiCo)


材料类型 铁镍钴靶
元素符号 FeNiCo
纯度 2N5,3N,3N5
尺寸 按需求
形状 平面/圆形/旋转靶
交期 1-3周
定制 支持定制
绑定服务 支持
用途 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层
产品简介

 

铁镍钴 (FeNiCo) 溅射靶材简介:


铁镍钴 (FeNiCo) 溅射靶材是一种高性能三元合金材料,广泛用于在先进电子、磁性及工业应用中沉积磁性、耐高温和耐腐蚀薄膜。FeNiCo 三元合金具有优异的磁性能、良好的热稳定性、强附着力、低内应力和均匀的成膜性能,是高耐久性功能涂层、磁性薄膜和精密电子元件的理想材料。


常用配比:


FeNiCo 20/40/40、30/30/40、40/30/30、50/25/25、15/55/30、25/50/25(wt% 或 at%)—— 其中,FeNiCo 20/40/40 和 FeNiCo 30/30/40 是应用最广泛的配比,具有均衡的磁导率和热稳定性,广泛应用于磁存储器件、传感器薄膜和电子封装;FeNiCo 40/30/30 因其优异的耐腐蚀性和磁饱和强度,常用于航空航天和精密磁性元件的溅射应用。


半导体与微电子


可用作集成电路、磁传感器和电子封装中的磁性薄膜、扩散阻挡层和导电金属化层,有效提高器件的磁性能和信号稳定性。


磁性薄膜与传感器


利用FeNiCo合金优异的磁性能,广泛用于沉积高性能磁性薄膜,应用于磁存储介质、磁传感器和电磁元件。


高温耐腐蚀涂层


适用于在航空航天部件、发动机零件和恶劣环境下运行的工业设备上制备高温耐腐蚀涂层,以保持结构完整性和性能稳定性。


光学与功能薄膜


用于制备具有优异机械和磁性能的磁光薄膜、反射层和功能薄膜,适用于光学仪器和光电器件。


研究与先进涂层开发


广泛应用于材料科学、薄膜沉积研究以及下一代磁性、电子和工业涂层系统的开发。


FeNiCo溅射靶材与直流和射频磁控溅射系统兼容,确保沉积稳定、薄膜成分均匀和高质量薄膜的形成。


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