铬硅溅射靶材（CrSi）
| 材料类型 | 铬硅靶 (CrSi) |
|---|---|
| 元素符号 | CrSi |
| 纯度 | 3N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
铬硅 (CrSi) 溅射靶材描述：
铬硅靶材是铬靶材延伸至高端功能薄膜领域的重要分支。
通过在铬中添加硅，所得的 CrSi 合金靶材可在反应溅射过程中生成复合涂层，例如 CrSiN、CrSiC 和 CrSiO。它们的核心优势在于：
硅的引入显著细化了晶粒尺寸，提高了硬度，并优化了摩擦学性能，使其成为实现超硬、低摩擦、高耐磨功能薄膜的关键材料。
我公司生产以下铬硅合金靶材：
Cr85Si 15at%，Cr90Si 10at%，Cr95Si 0.5at%
CrSi90/10wt%，CrSi50/50wt%，CrSi25/75wt%
铬硅平面靶材：多为矩形或圆形板材，采用粉末冶金热压 (HIP) 或放电等离子烧结 (SPS) 工艺生产，
可获得高密度 (≥99%)、细晶粒 (≤100μm) 和良好的薄膜均匀性。
铬硅旋转靶：管状结构，材料利用率高，可实现连续稳定的生产，
适用于大规模工业涂层。
核心应用领域
(1) 超硬耐磨涂层（核心应用）
应用场景：钻头、铣刀、刀片、精密模具、不锈钢手机壳、手表壳。
(2) 高阻薄膜
应用场景：精密薄膜电阻器、集成电路中的无源元件。
(3) 半导体和微电子
应用场景：半导体器件中的栅极、电极、阻挡层、互连材料。
(4) 装饰性和功能性涂层
应用场景：用于手表和手机壳、五金零件的黑色或深灰色装饰涂层。
CrSi20at%-2N8-COA
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