铝钛溅射靶材（AlTi）
| 材料类型 | 铝钛靶（AlTi） |
|---|---|
| 元素符号 | AlTi |
| 纯度 | 3N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
铝钛（AlTi）溅射靶材介绍
铝钛（AlTi）溅射靶材是一种高性能二元合金材料，广泛应用于先进半导体、电子及工业镀膜领域中高质量薄膜的制备。该材料结合了铝优异的导电性能与钛卓越的热稳定性、抗氧化能力及阻挡性能，使AlTi合金在高可靠性金属化及防护涂层应用中表现出优异的综合性能。
AlTi溅射靶材具有良好的附着力、低内应力、优异的耐腐蚀性能以及均匀稳定的成膜特性，是制备高性能功能薄膜与阻挡层的理想材料。
半导体与微电子应用
AlTi材料广泛应用于集成电路、晶圆及电子封装中的扩散阻挡层、接触金属化层及粘附层，可有效抑制元素互扩散，提高器件稳定性与使用寿命。
阻挡层与粘附层
该材料常用于不同材料之间的高性能阻挡层与粘附层，可增强界面结合力，并防止多层薄膜结构中的元素迁移。
防护与高温涂层
AlTi靶材适用于机械零部件、模具及航空航天部件的抗氧化、耐磨损及高温稳定涂层制备。
光电与显示器件
用于显示面板、光电模块及光伏器件中的导电层与阻挡层，确保器件在不同环境下具备优异的稳定性与耐久性。
科研与先进镀膜开发
该材料广泛应用于材料科学研究、薄膜沉积工艺开发以及新一代微电子与镀膜系统的研发领域。
AlTi溅射靶材完全兼容直流（DC）及射频（RF）磁控溅射系统，可实现稳定溅射行为、均匀成分控制及高质量薄膜沉积。
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