钴镍溅射靶材(CoNi)
| 材料类型 | 钴镍靶 (CoNi) |
|---|---|
| 元素符号 | CoNi |
| 纯度 | 2N5,3N,3N5 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶等 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钴镍 (CoNi) 溅射靶材描述：
钴镍溅射靶材提供标准纯度 (99.9%)、高纯度 (99.95%-99.99%) 和超高纯度 (≥99.999%)。钴镍比可根据应用需求进行调整。
常用比例包括 Co:Ni = 80:20 和 85:15。
CoNi50/50at%；CoNi50/50wt%；CoNi64/36at% 等。
微电子和半导体行业：这是钴镍溅射靶材的核心应用领域之一。它们用于制造集成电路中的薄膜电阻器和扩散阻挡层，
以及磁存储器件（例如磁传感器和 MRAM）中的磁性薄膜。
装饰涂层用于珠宝和手机等产品的表面处理。
高质量的钴镍溅射靶材通常采用真空熔炼工艺制备，以确保合金成分高度均匀、密度高、晶粒细小，
这对于获得高性能溅射薄膜至关重要
CoNi70/30at%-3N5-COA
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