陶瓷溅射靶材
| 材料类型 | 陶瓷靶 |
|---|---|
| 元素符号 | / |
| 纯度 | 按需求 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/异形靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
我们提供全系列高性能陶瓷溅射靶材，专为精密薄膜沉积工艺设计。产品广泛应用于半导体、光学、电子、能源及涂层工业领域。
通过对纯度、致密度及微观结构的严格控制，我们的陶瓷靶材能够实现稳定的溅射性能、优异的薄膜质量以及更长的使用寿命。
可供应材料
我们提供多种氧化物、氮化物、碳化物、硼化物及复合陶瓷靶材：
氧化物陶瓷
SrTiO₃（钛酸锶）
BaTiO₃（钛酸钡）
Fe₂O₃（氧化铁）
NiO（氧化镍）
In₂O₃（氧化铟）
MgO（氧化镁）
Ta₂O₅（五氧化二钽）
Nb₂O₅（五氧化二铌）
HfO₂（氧化铪）
Al₂O₃（氧化铝）
ZnO（氧化锌）
TiO₂（二氧化钛）
SiO₂（二氧化硅）
碳化物
TaC（碳化钽）
NbC（碳化铌）
HfC（碳化铪）
SiC（碳化硅）
氮化物
TaN（氮化钽）
NbN（氮化铌）
CrN（氮化铬）
TiN（氮化钛）
BN（氮化硼）
硼化物
TiB₂（硼化钛）
ZrB₂（硼化锆）
复合/特种陶瓷
B₄C（碳化硼）
产品特点
高纯度：关键应用纯度可达 99.99%
高致密度：≥98% 理论密度，保证稳定溅射性能
均匀微观结构：确保薄膜沉积一致性
尺寸可定制：支持平面靶、旋转靶及键合靶
优异结合性：可匹配多种背板材料（Cu、Ti等）
应用领域
半导体行业
用于介电层与阻挡层沉积
光学镀膜
用于减反射膜、高反射膜等光学涂层
显示技术
应用于 TFT、OLED 显示薄膜制备
能源器件
用于太阳能电池、燃料电池等功能薄膜
耐磨涂层
用于工具及零部件的高硬度耐磨涂层制备
