钴铬铁镍溅射靶材 (CoCrFeNi)
| 材料类型 | 钴铬铁镍靶 (CoCrFeNi) |
|---|---|
| 元素符号 | CoCrFeNi |
| 纯度 | 3N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/异形靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钴铬铁镍 (CoCrFeNi) 溅射靶材描述：
钴-铬-铁-镍合金靶材常用比例：Co:Cr:Fe:Ni = 1:1:1:1at%
尺寸：
平面靶材：传统的平面靶材，应用最为广泛。
异形靶材：可根据客户需求定制形状，例如圆盘、棒材、颗粒等。
纯度：3N、3N5
应用：
半导体制造：用于制备导电层、阻挡层、电极层等关键薄膜结构，用于先进工艺芯片。
磁记录技术：用于制造硬盘驱动器中的磁膜，实现高密度数据存储。
磁存储设备：磁头、磁传感器，利用其软磁特性制造高性能磁头和传感器。
光学：具有特殊光学性能的薄膜，用于制备具有特定光学特性的涂层。
电子工业：电阻器、电容器、电子元件，用于制备各种电子元件的薄膜。
医疗器械：植入物、手术器械涂层；优异的耐腐蚀性和生物相容性使其适用于医疗器械领域。
CoCrFeNi-3N-COA
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