镍铝溅射靶材（NiAl）
| 材料类型 | 镍铝靶 (NiAl) |
|---|---|
| 元素符号 | NiAl |
| 纯度 | 2N5,3N,3N5 |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/旋转靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
镍铝（NiAl）溅射靶材描述：
镍铝溅射靶材的制备和应用涉及以下关键参数：常用比例：
Ni : Al = 50 : 50 (at%)
NiAl60/40wt%
NiAl50/50at%
NiAl97/3wt%
NiAl76/24wt%
纯度：99.9% (3N) - 99.99% (4N)，半导体级应用要求≥99.99%。
熔点：约1400 - 1640℃，具有优异的高温稳定性。
制备工艺：热压烧结
主要应用领域
镍铝溅射靶材的应用主要集中在对耐高温性和可靠性要求极高的高科技领域。
1. 航空航天与高温防护（核心应用）
MCrAlY 型涂层（M 代表 Ni、Co 等）是通过溅射镍铝靶材形成的，
可用作热障涂层的粘结层。
2. 半导体与微电子
在芯片制造中，镍铝溅射靶材用于形成薄膜电阻器或扩散阻挡层。
3. 光伏器件与玻璃涂层
在太阳能电池领域，镍铝溅射靶材可用于制备电极层或反射层。
4. 无源器件
在芯片电阻器和电容器等无源器件中，镍铝靶材可用于
溅射端电极或电阻层，从而提供稳定的电性能和良好的可焊性。
NiAl9wt%-4N-COA
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