产品简介
物理和化学特性
氧化铟锡（ITO）是一种由不同比例的铟、锡和氧组成的三元陶瓷靶材。ITO靶材是薄膜工业中最广泛使用的化合物之一。它可在真空条件下蒸发或溅射，用于在液晶显示器（LCD）制造和各种光学镀膜中形成透明导电层。
氧化铟锡 (ITO) 靶材广泛用于制备电透明薄膜。这些薄膜采用直流磁控溅射工艺制备，用于制作平板显示器、太阳能电池、气体传感器等产品的电极。ITO 溅射靶材要求具有高纯度、均匀的微观结构、高密度和高导电性，以提高 ITO 薄膜的性能。
ITO靶材规格
直接: φ25.4mm, φ50mm, φ50.8mm, φ60mm, φ76.2mm, φ80.0mm, φ101.6mm, φ100mm
厚度: 3mm, 3.175mm
熔点: 1,800 ℃
沸点: 2830℃
电阻率: ≤1.8×10-4Ω·cm
实际尺寸: 5~15μm
电阻率: <0.12mΩ·cm
线性热膨胀系数: 8.2×10-3K-1
ITO靶材制造工艺:
制造、热压、烧结弹性体粘合到背板上，清洁并最终包装，清洁后即可在真空中使用，
ITO靶材应用
氧化铟锡 (ITO) 溅射靶材广泛应用于制备电透明薄膜。这些薄膜采用直流磁控溅射工艺制备，用于制作平板显示器、太阳能电池、气体传感器等器件的电极。ITO 靶材也广泛应用于电子领域，因为电子领域对材料的要求通常相对较高。ITO 靶材对电子行业的发展起到了一定的推动作用。同时，ITO 靶材可以延长电子产品的使用寿命，且质量更符合检测标准。通常情况下，很少出现成品不合格的现象，外观质量也能满足人们的需求。
相关陶瓷溅射材料
| 氧化物溅射靶材 | ||||
| (Al2O3) | (Fe3O4) | (LaNiO3) | (Sc2O3) | (AZO) |
| (FTO) | (LaFeO3) | (SrTiO3) | (ATO) | (Ga2O3) |
| (LaMnO3) | (SrRuO3) | (Bi2O3) | (GZO) | (MgO) |
| (SrMnO3) | (BiTiO3) | (Gd2O3) | (MoO3) | (TiO2) |
| (BaTiO3) | (HfO2) | (Nb2Ox) | (Ti3O5) | (CeO2) |
| (Ho2O3) | (NiO) | (Ta2O5) | (Cr2O3) | (In2O3) |
| (Nd2O3) | (Tb4O7) | (CoO) | (ITO) | (PbO) |
| (Tm2O3) | (CuO) | (IZO) | (ZTO) | (VO2) |
| (Cu2O) | (IGZO) | (Pr6O11) | (V2O3) | (Er2O3) |
| (La2O3) | (SiO) | (V2O5) | (Eu2O3) | (LSCO) |
| (SiO2) | (WO3) | (Fe2O3) | (LaAl2O3) | (Sm2O3) |
| (Y2O3) | (YSZ) | (YBCO) | (ZnO) | (ZrO2) |
| 氟化物溅射靶材 | ||||
| (AlF3) | (DyF3) | (NdF3) | (PrF3) | (YF3) |
| (BaF2) | (LiF) | (NaF) | (SrF3) | (ZnF3) |
| (CaF2) | (LaF3) | (Na2AlF6) | (SmF3) | (YbF3) |
| (CeF3) | (MgF2) | (KF) | ||
| 氮化物溅射靶材 | ||||
| (AlN) | (HfN) | (Si3N4) | (TiN) | (ZrN) |
| (BN) | (NbN) | (TaN) | (VN) | |
| 碳化物溅射靶材 | ||||
| (B4C) | (NbC) | (TaC) | (WC) | (ZrC) |
| (HfC) | (NiC) | (TiC) | (WC+Co) | (VC) |
| (MoC) | (SiC) | (TiCN) | ||
| 硼化物溅射靶材 | ||||
| (CrB2) | (FeB) | (TaB) | (TiB2) | (HfB2) |
| (LaB6) | (ZrB2) | |||
| 硫化物溅射靶材 | ||||
| (CdS) | (FeS) | (MnS) | (TaS) | (MgS) |
| (CuS) | (PbS) | (NbS) | (WS2) | (Sb2S3) |
| (Ce2S3) | (MoS2) | (In2S3) | (ZnS) | |
| 硅化物溅射靶材 | ||||
| (CrSi) | (MgSi) | (TaSi2) | (WSi2) | (ZrSi2) |
| (MoSi2) | (NiSi) | (TiSi2) | (VSi) | |
| 硒化物溅射靶 | ||||
| (Bi2Se3) | (CrSe) | (MoSe2) | (Ga2Se3) | (WSe2) |
| (Cu2Se) | (PbSe) | (In2Se3) | (GeSe2) | (SnSe) |
| (CdSe) | (Sb2Se3) | |||
| 碲化物溅射靶 | ||||
| (CdTe) | (PbTe) | (GeTe) | (GST) | (Bi2Te3) |
| (Sb2Te3) | (Sb7Te3) | |||
| 锑化物溅射靶材 | ||||
| (AlSb) | (InSb) | (GaSb) | (ZnSb) | (AlGaSb) |
| 铁电/锂电池复合溅射靶材 | ||||
| 钴酸锂 LiCoO2 | 锂锰镍氧化物 LiNi0.5Mn1.5O3 | 磷酸铁锂 LiFePO4 | 富锂钴氧化物Li(1+X)CoO2 | 富锂锰酸锂Li(1+X)Mn2O4 |
| 钛酸锂Li4Ti5O12 | 铝掺杂钴酸锂 AlLiCoO2 | 铝掺杂锰酸锂 LiMn2O4+Alx | 磷酸钛锂LiTi2(PO4)3 | 锰酸锂 LiMn2O4 |
| 磷酸锂 Li3PO4 | 磷酸硅锂 LiSiPO4 | 钛酸钡BaTiO3 | 钛酸锶SrTiO3 | 钛酸铋BiTiO3 |
| 镧锶钴氧化物 LSCO | 镧钙锰氧化物 LCMO | 钴酸锂 LiCo2O4 | 锆钛酸铅PZT | 氧化硼掺杂磷酸锂 Li3PO4:B2O3 |
| 钛酸镧锂 Li0.35La0.57TiO3 | 镧锆锂氧化物 LLZO | 镧锶锰氧化物LSMO | 铋铁氧体BiFeO3 | 钛酸锶钡 BaSrTiO3 |
