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氮化铝(AlN)溅射靶材


材料类型 氮化铝
元素符号 AlN
产品简介

物理和化学特性

氮化铝陶瓷靶材是一种陶瓷溅射材料,其化学式为AlN,熔点为2200℃,密度为3.26g/cm³,沸点为2517℃。它具有硬度高、熔点高、化学性质稳定、导电性好等特点。

制造方法:等离子弧蒸汽

用途

纳米氮化铝主要用于制备集成电路减法、电子器件、光学器件、热发射器件、高温坩埚、金属基及聚合物基复合材料,尤其在高温密封胶粘剂和电子封装材料方面,未来将获得广泛的应用。

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